Introduzione: Acqua ultrapura: l'ancora di salvezza della produzione di chip
Nella produzione di semiconduttori, processi critici come la pulizia, l'incisione e la lucidatura dei wafer si basano tutti sull'acqua ultrapura. Anche piccole quantità di impurità (ioni o particelle)
nell'acqua possono causare cortocircuiti o difetti nei circuiti integrati, riducendo direttamente la resa del chip. Pertanto, la purezza dell'acqua ultrapura è fondamentale e ogni componente del
suo sistema di preparazione, stoccaggio e distribuzione deve soddisfare requisiti di pulizia estremamente elevati. In questo campo, i sensori di livello capacitivi, grazie alla loro superiore compatibilità con la pulizia,
sono diventati la scelta preferita per il monitoraggio dei livelli di acqua ultrapura.
I severi requisiti dei sistemi di acqua ultrapura per i sensori di livello
•
Pulizia estremamente elevata: il materiale del sensore deve essere acciaio inossidabile di alta qualità (come 316L L-VMP), con una superficie elettrolucidata (Ra≤0,4μm), priva di angoli morti
e priva di precipitazione ionica e assorbimento di contaminanti.
•
Resistenza alla sterilizzazione ad alta temperatura: il sistema richiede una sterilizzazione periodica con vapore puro ad alta temperatura o acqua calda (SIP) e il sensore deve essere in grado di resistere a temperature superiori a 120°C.
•
Resistenza alla corrosione: il sensore deve essere in grado di resistere alla corrosione proveniente da ambienti di sterilizzazione altamente ossidanti come l'acqua con ozono. •
Misurazione stabile: l'acqua ultrapura ha una resistività estremamente elevata (18,2 MΩ·cm) e una costante dielettrica stabile, che richiedono sensori con rapporto segnale/rumore e stabilità estremamente elevati.
Soluzione con sensore di livello capacitivo
1.
Soddisfa i più elevati standard di pulizia: le parti di contatto del sensore possono utilizzare materiali puliti e tecniche di lavorazione conformi agli standard SEMI F72, garantendo che non diventino una fonte di contaminazione.
2.
Connessioni igieniche perfette: sono disponibili connessioni al processo igieniche Tri-Clamp, ISO e SMS, che garantiscono l'assenza di punti ciechi.
3.
Tollerante ai processi SIP: utilizza componenti elettronici e materiali di tenuta compatibili con le alte temperature, resistendo stabilmente alle temperature di sterilizzazione.
4.
Misurazione accurata: ottimizzata per le caratteristiche dell'acqua ultrapura, fornisce segnali di livello stabili e altamente ripetibili.
Applicazioni principali
•
Serbatoi di stoccaggio dell'acqua ultrapura: monitoraggio dei livelli dei serbatoi e collegamento con apparecchiature di purificazione dell'acqua (RO/EDI/letto misto di lucidatura) per mantenere l'equilibrio dell'acqua.
•
Sistema di alimentazione dell'acqua per il pulitore wafer: fornisce segnali di controllo del livello al serbatoio dell'acqua prima del pulitore per wafer.
•
Serbatoio della soluzione chimica ad elevata purezza: monitora il livello delle sostanze chimiche diluite ad elevata purezza (ad es. SC1, SC2).
Linee guida per la selezione: il livello di pulizia del sensore (ad esempio, conformità agli standard SEMI), i certificati dei materiali bagnati,
la certificazione della finitura superficiale interna e la capacità di resistere ai cicli SIP devono essere chiaramente specificati.
